芯片对于当今科技发展和国家安全的重要性不言而喻，为了国家的发展和稳定，“芯片国产化”是国家未来长期重要发展战略。而芯片制造是一个系统化的工程，包含了薄膜生长、光刻、显影、刻蚀等步骤。其中最关键的一步“光刻”，则需要用到“人类最精密复杂的机器”——光刻机，光刻机是制备高端芯片的核心设备之一。我国迄今尚无自主研制的EUV极深紫外光刻机，而高光子能量及高亮度的极深紫外光源则是自主研制EUV极深紫外光刻机所需的最为关键的前沿技术。基于此， “基于极深紫外光源的芯片制造技术前沿基础研究”的前沿引领技术基础研究专项探索项目，已经由江苏省科技厅组织专家进行了立项、论证并顺利启动。
项目依托单位南京大学在相关领域具有国际一流的技术团队和国际合作基础，项目领衔科学家徐永兵教授及团队依托江苏省光电功能材料重点实验室，已在该领域进行了近十年的研究，积累了丰富的研究经验和成果，为项目的顺利开展打下了坚实的基础。在国家自然科学基金的重大仪器项目的支持下，团队已成功研制出一套具有国际水平的极深紫外光源及超快能谱测量系统。在本项目中，团队将在已有的极深紫外光源基础上，聚焦极深紫外光源的相关基础研究，通过设计新的激光与气体的相互作用腔、优化光源发生系统，进一步地缩短光子波长到13.5 nm，提高光源亮度并进行EUV极紫外光刻的可行性验证。通过该项目的实施，可得到短波长的极深紫外光源，对下一步研制自主可控的EUV极紫外光刻机、提升我省在集成电路领域的核心竞争力、保证我国芯片产业的发展具有重要意义。
来源：江苏省科技厅
