国产光刻机到底和ASML差多少？专家给出回应，答案令人深思。由于华为公司通讯业务（5G）的崛起，美国感到了强烈的危机感。为此，特朗普政府决定加大对华为的制裁力度。实际上，特朗普政府主要从两个方面对华为进行制裁，一个是系统上，美国政府责令谷歌公司停止对华为授权GMS服务。另一个则是在芯片上，由于华为目前已经实现了芯片完全自研化，美国的这条禁令也将失去效果。然而，特朗普政府又想出了一招，那就是在芯片供应商下手。
虽然华为能够自主研发芯片，但芯片的生产代工还是要交由台积电进行，而台积电又是美资企业，只要特朗普发话，可能华为的芯片供应就要受到很大的影响。果不其然，在美国宣布对华为实施芯片断供后，台积电停止接收来自华为的中低端芯片订单。
然而，在这个危及到华为存亡的时刻，一家大陆企业站了出来，它就是中芯国际。遗憾的是，目前中芯国际仅仅能够生产出中低端芯片，虽然华为与中芯国际达成了合作，但中芯国际目前还没有生产高端芯片的能力，其原因是没有先进的光刻机。也就是说，如果美国政府继续施压，华为将陷入更大的危机。说到这里可能很多人就想问，我国的光刻机与国外（荷兰ASML）究竟差多少呢？
据资料显示，我国目前最先进的光刻机为上海微电子设备公司研发的90nm光刻机，说白了，这种光刻机最高能生产90nm制程工艺的芯片，这和ASML公司的7nmEUV工艺有着天壤之别。专家表示，单单在光刻机上，我国与荷兰至少有着的差距，这还是乐观的估算，因为没有将供应链的问题考虑进去。
当然了，ASML公司不会停下研发的脚步，如果我国不保持着大规模投入，将会形成一种“强者愈强、弱者愈弱”的局面，这也就意味着我国永远无法摆脱受制于人的局面。我国业内专家称，在光刻机以及半导体产业的问题上，我国还需投入大量的资金，培养大量的人才，至于这个“大量”是多少，可能谁也无法给出答案。
通过国内外研发资金的对比我们就可以看出，我国在这方面的投入实在是太少了。成功永远不是一蹴而就的，虽然中国很强大，但也不能一步登天，就算是ASML公司，也花费了十年时间才研发出人类历史上第一台EUV光刻机。
