近期，随着美国加强对华为的出口管制、华为只剩120天缓冲期，之后其芯片代工就将处于美国的严防死守之下的种种爆炸性消息的公布，国人再次意识到了在关键领域“自研+去美化”的重要性。因此，光刻机和半导体等与芯片代工“相邻”的话题，在近日成为不少科技圈人士尤为津津乐道的话题。
而生产光刻机的核心部件之一——光刻胶，也理所当然地进入了国人的视线。提及光刻胶，就不得不说一下国内唯一一家拥有ASML曝光机的光刻胶公司——北京科华微电子材料有限公司。作为目前国内唯一拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业，科华微电子成功打破日美等国家的垄断，突破技术封锁，在世界半导体光刻胶领域抢占一席之地。
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据公开资料显示：北京科华微电子成立于，是一家集光刻胶研发、生产、检测和销售于一体的中外合资企业，曾经在跻身SEMI全球光刻胶企业的前十名。而发展到如今，北京科华微电子在半导体光刻胶领域已是颇有建树。
不论是最低端的G线、i线光刻胶领域还是KrF光刻胶领域，北京科华微电子都已经实现量产。其中，北京科华微电子量产的技术要求仅次于ArF的KrF-248nm光刻胶，更是代表着国内目前最先进的光刻胶研发与生产水平。
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而在KrF光刻胶领域，仅是日本厂商占有率便高达80%，所以能在日美厂商的围追堵截中杀出重围，北京科华微电子的实力足以令人赞不绝口。更令人意外的是，在多年来坚持自主创新的理念灌输下，如今科华微电子已经在高端晶圆加工应用、先进封装应用等多个领域积累了深厚的技术基础。
另一方面，凭借着国内领先的实力，北京科华微电子也将中芯国际、华润上华以及吉林华微电子等国内半导体行业的顶尖客户收入囊中。
在7月，科华微电子更是获得了由紫荆资本、沃衍资本以及江苏盛世投资等多个投资机构合计共1.7亿元的投资。此外，在高端光刻胶领域，北京科华微电子和南大光电等企业，也都早已投入ArF光刻胶的研发。
不过根据5月22日的消息来看，南大光电先行一步，其研发的ArF光刻胶已经按计划开始进行客户测试。结合之前南大光电在许下的计划用3年时间实现ArF光刻胶的建设、投产和销售的目标来看，北京科华微电子后续要加快脚步了。
